투광성이있는 PET FILM 에 복합 세라믹 다층막을 박막 처리하여 투명하고도, 효율이 높은 전자파 차폐 기판 적용가능
높은 도전특성의 박막 기판사용으로 차폐 효율 우수, 나노스케일 의 박막 기술 적 용으로 기술 구현이 가능
소형화 /초슬림화 가능 - 0.3mm 이내 박막형 필름
전자파차폐 투명전도막은, 투과도 및 저저항 요소가 필수조건
전자파차폐시험의 필수요건 -(20db / 전자파차폐 실험 data)- 금번 출시품 60db, 필름저항조건
　 (10 ohm / 전자파차폐 투명전도막수입품)

전자통신의 발달로 인한, 보다 많은 전자파의 이용이 불가피합니다. 전자파간섭 (Electro-Magnectic Interface;EMI)은 더 이상 간과 할수 없는 문제로, 가전 및 통신기기에 EMI규제가 강화되고 LCD(Liquid Crystal Display), EL 및 CRT와 같은 디스플레이(Display)의 전면으로부터 방출되는 인체에 유해한 전자파(EMI;전자파, NIR;근적외선, 네온광)를 차단소재가 필요하며 수요도 급속한 증가세를 보이고 있습니다.

이런 시장확대에 본 고효율 투명전자파차단소재는 LCD /VDT 같이 장치 구동, 특성상 전자기파의 방출량이 많은 디스플레이 장치의 정면에 설치되어, 모니터와 같이 투광성이 요구되는 부분 에는 전자파의누설을 효과적으로 차폐 할수 있어야 합니다.
현실은 대부분수입에 의존하여 왔고, 국산 투광성 EMI차폐재의 개발이 절실히, 요구되고있습니다.

우선차폐성능이 20db이상의 값을 가져야 하고 10 ohm/sq 이상의 면저항을 보유하여야하며, 가시관 영역의 (380~780nm의 파장)에서 최소 60%이상의 빛을 투과시킬수 있어야 합니다.

따라서, 본제안내용인 투명전도막의 나노박막의 국산화로인한 국내기술정립이 시급합니다. 본 공정을 통해 . 기존공정의 생산성및 가격경쟁력을 50%이상 높일 수 있는 기술을 개발 하여 국제적 기술경쟁력을 갖추고자합니다.

도전성 Windows (Shielded Screen).
Coating type windows는 투명판재 한 면에 전자파 차폐를 위하여 전도성소재를 진공 SPUTTER 코팅한 제품으로 빛 투과성이 우수하여LCD 등에 주로 이용되며 ITO 코팅신소재등 이 적용됩니다.

정밀 나노박막 코팅 제조기술 (기확보 기술), 균일두께 / 균일 코팅 → 특허보유
고투과율증대 기술 (기확보 기술) - 특허및 연구과제 통한 공정기술보유
타겟제어 기술 (일부기확보+현장접목 보완 필요), 박막코팅 + 전처리 공정 개발-개발필요부분
　 부분별 조립기구설계, 타겟제어 및 프라즈마환경 제어공정
신뢰성기술 (보완기술)
　 신뢰성TEST 기술 → 완제품공정업체와 협력(뉴-옵틱스사 협력)

특허등록 0533068호 -기술권리권자 ㈜ 유니플라텍 2005년11월25일등록 -프라즈마이온주입법에의한 폴리머표면처리
특허등록 0533070호 -기술권리권자 ㈜ 유니플라텍 2005년11월25일등록 - 프라즈마 이온주입법을이용한 금속제품의
　 내마모성향상방법
특허출원 10-2012-0055921 -기술권리권자 - ㈜ 유니플라텍 -다층박막이 코팅된 투명전도막의 제조방법,
　 제조 방법에 의해 제조된 다층, 박막형 투명 전도막, 및 다층 박막형 투명 전도막 제조 시스템

복합다층 금속코팅 sputter 기술장비인프라
연속식 금속/비금속 sputter/이온주입기술
Plasma 크리닝공정기술
Plsama Source /Gun 설계 / 제작기술

ITO 고가소재 대신 AZO 국산소재 적용 -(4배의 가격 경쟁력), AZO/ AG /AZO를 사용하여, 경제성 구현
　 - 기존 품질규격을 맞추면서 50%이상 원가절감 된 제품개발
단일막구현, 복합다층막구현으로 소비자가 원하는 사양에 대응.

인쇄공정 검수공정 출하전 공정 와인딩 공정
주관기관 보유장비로서 실험한 카본 프린팅공정
본공정으로 향후 실험할 예정임.

보유장비 - BatchType 생산장비
보유장비 - Plasma Rollto Roll 연속식 금속/비금속 롤투롤 코팅시스템